KGS überarbeitet Hochdruckgasregeln für EUV-Anlagen in Korea

20. August 2026

Die Korea Gas Safety Corporation (KGS) hat die Anforderungen an die Hochdruckgassicherheit für EUV-Anlagen der Halbleiterindustrie in Korea überarbeitet. Die Änderungen der KGS-Vorgaben sollen die Einführung von Extrem-Ultraviolett-Lithografieanlagen (EUV) vereinfachen und gleichzeitig die erforderliche Gassicherheit bei Anlagen für die Halbleiterfertigung gewährleisten.

KGS erörterte die angepassten Regelungen und die weitere Zusammenarbeit im Bereich der Halbleiter-Gassicherheit mit ASML Korea. Im Mittelpunkt standen praxisgerechtere Anforderungen an das Hochdruckgas-Sicherheitsmanagement sowie die Unterstützung einer stabilen Entwicklung der koreanischen Halbleiterindustrie.

EUV-Halbleiteranlagen mit Hochdruckgassystemen benötigen in der Regel eine KGS-Zertifizierung, um für Import und Verkauf in Korea zugelassen zu werden.

Neue Einstufung von EUV-Anlagen nach KGS-Vorgaben

KGS hat verschiedene regulatorische Maßnahmen umgesetzt, um Schwierigkeiten bei der Einfuhr von EUV-Lithografieanlagen zu reduzieren. Diese Anlagen gehören zu den zentralen Technologien für die moderne Halbleiterfertigung. Zu den Anpassungen zählen unter anderem überarbeitete Inspektionsverfahren sowie die Anerkennung neuer Materialspezifikationen hinsichtlich Werkstoffen und Materialstärken.

Eine wesentliche Änderung betrifft die regulatorische Klassifizierung von EUV-Anlagen. Bislang wurden diese als „Hochdruckgas-Produktionsanlagen“ eingestuft. Nach der neuen Regelung gelten sie als „spezifizierte Hochdruckgasanlagen“.

Durch diese Neueinstufung können erforderliche Prüfungen flexibler durchgeführt werden. Neben Inspektionen am späteren Installationsort in Korea sind nun auch Prüfungen an ausländischen Produktionsstandorten möglich. Dadurch soll das Verfahren für außerhalb Koreas hergestellte EUV-Anlagen deutlich vereinfacht werden.

Nach Angaben von KGS könnte sich die bisher mehr als einen Monat dauernde Einfuhr und Einführung entsprechender EUV-Anlagen auf etwa zehn Tage verkürzen.

Auswirkungen auf Hersteller und den Marktzugang in Korea

Die überarbeiteten KGS-Anforderungen dürften den administrativen und zeitlichen Aufwand für Unternehmen reduzieren, die EUV-Lithografieanlagen nach Korea liefern. Hersteller und Exporteure sollten dennoch prüfen, welche Auswirkungen die neue Klassifizierung auf Inspektionsverfahren, technische Dokumentationen, Materialspezifikationen und weitere KGS-Compliance-Anforderungen hat.

KGS und ASML Korea verständigten sich zudem darauf, ihre Zusammenarbeit zur Sicherheit von Hochdruckgasanlagen in der Halbleiterfertigung fortzusetzen. Dabei soll insbesondere der praxisbezogene Austausch zu den Bedingungen an den Produktionsstandorten eine wichtige Rolle spielen.

KGS betonte, dass regulatorische Anforderungen auf einer gesicherten technischen Grundlage angemessen angepasst werden können. Gleichzeitig soll die Gassicherheit weiterhin oberste Priorität haben, während die Behörde den Dialog mit der Halbleiter- und Gasindustrie über weitere regulatorische Verbesserungen fortsetzt.

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